将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
和DPP3438，这两款芯片的管脚除中心的25个接地管脚外完全一样，除了尺寸以外，这两款芯片有什么区别吗？ 2我购买了几款光引擎厂商提供的DEMO机，发现有的厂家使用了DPP3435来控制720P的
2018-06-23 02:30
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系
2020-03-23 09:00
光伏智能清扫机系统是由哪些部分组成的？光伏智能清扫机是如何与无线模块进行通讯的？
2021-06-30 07:07
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
tcl脚本小白，我现在需要编写一个脚本引擎，目前已经建立好了自己的一套指令系统，需要能使用这个脚本引擎将我记事本编写的程序翻译成机器码，换句话说如何实现程序指令和机器码之间的映射，这个脚本
2016-03-19 16:16
什么是光储型虚拟同步机？
2021-11-04 06:18
一种基于LabVIEW和RS485通信的光伏电站监测系统设计
2021-05-14 06:12
