翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
发点关于电视机维修的基本要求和基本知识和基本技能。谢谢各位！！！
2015-04-09 17:23
电源基本知识问答20条
2021-01-26 06:25
电源基本知识问答20条，你答对了几条？
2021-01-29 07:18
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
有木有大侠有手机baseband的基本知识介绍，是指单纯的一个芯片吗还是说开发某款手机的平台呢，有木有类似的基础入门知识的扫盲贴呢？感激不尽~~~
2013-01-16 13:51
STM32有哪些基本知识？如何去建立一种STM32开发环境？怎样去安装并下载一种keil软件？
2021-07-05 07:30
初学者除了学好书本上的基本知识外，如何能进一步学习Protel
2017-03-03 09:19
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
]=overamples[0]/sw_filter_size;/*********/“saved_value[0]”中的代码被计算为无符号数……我是否忘记了一些关于INT/UINT如何评估的基本知识？或者这是编译器中的一个bug吗？
2019-11-06 09:20
