翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
落后三年多（台积电和三星的14/16纳米制程工艺都是在2015年开始量产的），这实际上就是美国对中国大陆ＩＣ制造设备的禁运目标。ＩＣ制造设备种类非常多，价格都非常昂贵，其中最重要的是光刻机。光刻机
2018-06-13 14:40
嗨专家，我正在使用ILA调试我设计的一些网。我正在使用KCU105板。但是最大允许C_DATA_DEPTH是131072，这对我来说太低了。有没有其他方法来调试我的设计的网络那么，我可以倾倒几亿个样本？使用VIO核心可以解决这个问题吗？我将感谢任何建议和帮助。
2020-05-21 07:46
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
据了解，因为致力于以“智能化设备+信息化技术+网络化技术”提升传统电子产业链服务模式，某电子产业互联网平台没有一个业务员，居然可以服务全球20万+客户群体，而且把线上营业额做到了几亿元规模！对于传统制造企业而言，这是不敢想象的，也是难以想象的！
2020-01-18 11:53
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
大家好，我正在使用ILA调试我设计的一些网。我正在使用KCU105板。但是最大允许C_DATA_DEPTH是131072，这对我来说太低了。有没有其他方法来调试我的设计的网络那么，我可以倾倒几亿个
2020-05-21 15:14
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
