就是研发NA 0.5的光学镜片，这是EUV光刻机未来进一步提升分辨率的关键，不过高NA的EUV光刻机至少是2025-2030年的事了，还早着呢，光学镜片的进步比电子产品难多了。 NA数值一时间不能提升
2020-07-07 14:22
，光刻机和单反相机是相似，但两者的复杂和精密度是完全不可同日而语的。否则坊间哪来的“ASML的光刻机比氢弹更难搞”呢？ 光刻机之精密 我们是不知道ASML
2020-09-02 17:38
据羊城晚报报道，近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机，顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区，中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机，主要用于企业复
2021-07-29 09:36
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式
2012-01-12 10:56
8051单片机原理学习单片机结构框图参考单片机结构框图51单片机的结构框图如下所示51单片机主要组成部件有：8bit微处理器(CPU): 主要进行算术运行和逻辑控制片内4KB程序存储器(4KB
2021-11-17 06:26
1/3，是第一大设备供应商。据统计，去年台积电设备采购中，ASML光刻机等设备金额约为34亿美元，占台积电总采购额的33%，其次是应用材料，采购额约为17亿美元，占比1
2020-03-09 10:13
lGPP主要流程喷砂清洗后的扩散片→一次光刻→沟道腐蚀→清洗→涂玻璃粉→钝化→（电性初检）→二次光刻→镀镍（镀金）→电性检测（测片）→划片裂片l主要设备：
2011-05-13 22:01
单片机主要有哪些系列？它们分别有什么不同？以及主要应用于哪些领域？
2021-07-16 07:19
