为优化LLM为“小模型/少数据/好效果”，提供了一种新思路：”一步步蒸馏”（Distilling step-by-step）
2023-05-16 10:24
自举电路如何把电压一步步顶上去的？ 1、基本比较器电路 2、LM393 驱动CMOS 的电路 3、LM393 驱动TTL 的电路 4、低频运算放大器 5、换能放大器电路 6、带失调调整的低频
2022-08-15 10:46
本文详细介绍了Java开发环境的搭建以及使用eclipse从开始一步步创建Java项目。1.首先安装JDK，接下来需要配置环境变量，配置path变量等，详情请看下文
2018-02-01 14:20
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高
2020-08-28 14:39
本文以光刻机为中心，主要介绍了光刻机的分类、光刻机的结构组成、光刻机的性能指标、光刻机的工艺流程及工作原理。
2017-12-19 13:33
光刻机是芯片制造最为重要的设备之一。目前，ASML垄断了全世界的高端光刻机。中国一直以来都想掌握光刻机技术，但是上海微
2020-01-29 11:07
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。一般的光刻工艺
2018-04-10 09:49
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键
2018-04-10 10:57
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2020-10-16 10:33
由于右边的 2 已经是排好序的数字，就不再参与比较，所以本轮冒泡结束，本轮冒泡最终冒到顶部的数字 5 也归于有序序列中，现在数组已经变化成了[ 8，9，7，5，2 ]。
2019-07-18 14:55
