九轴姿态传感器是如何发展起来的？
2021-11-01 07:33
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
比如 ZephyrOS 或者简单一些的FreeRTOS。现在的这种模式太落后了。网络库、蓝牙还不发布源代码，这样怎么能有生态，怎么能发展起来？
2022-08-24 06:53
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
很多公司觉得ARM收费太高，决定一起搞RISC-V架构，是不是这种开源的是不是不收费的；那和ARM有啥区别，能发展起来吗
2023-10-30 06:38
下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作，相关方面也没有人有任何经验，只能我自己去摸索去学习，但一学期下来也没有什么头绪（学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用），上学期也被老师说在混
2018-02-27 15:47
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
MEMS即微机电系统(Microelectro Mechanical Systems)，是在微电子技术基础上发展起来的多学科交叉的前沿研究领域。经过四十多年的发展，已成为世界瞩目的重大科技领域之一。它涉及电子、机械、材料、物理学、化学、生物学、医学等多种学科与技术
2020-05-14 08:03
通常，我们想起可穿戴技术就会想到最前沿的科技和当今时代的发展。可穿戴技术真的只是最近才发展起来的吗？
2019-08-16 07:23
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
