翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
使用的是第3方方案板，可以boot起来，现在把第3方的核心板接到我们自己的板子上，发现boot不起来，debug口没有任何的调试信息出来，使用的是uart1做调试口，测
2018-06-21 15:07
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
想试试PWM驱动24V直流电机，但是手头上没有24V电机，只有直流48V有刷电机。于是，手贱，想去试一下，结果，电机纹丝不动，24V转5V电源芯片***掉，顺便单片机也报销了。有点迷惑，如果说驱动不起来
2019-11-11 09:00
的采样时钟来实现这个需求，会不会有问题？？隐隐觉得这样做似乎有问题。如果不这样做，我如何才能以最短的时间将ADC的采集和我的触发信号同步起来
2023-12-13 06:37
三年的目标。那美国***何必要蹦出来说禁运呢？但是在这里必须说明，中国IC制程落后的最主要原因，并不是买不到光刻机，或者是光刻机到货太晚。最主要的原因在于没有足够的人才和技术！！现状就是，即使把所有最先
2018-06-13 14:40
想用IIC接口的IIC_SCL和IIC_SDA引脚做普通GPIO，两个引脚对应的是GPIO58和GPIO59，更改代码将设置为普通GPIO引脚模式后，程序启动不起来。问：这种情况如何解决，官方支持这种应用吗？
2025-05-06 08:59
