半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD(Liquid Crystal Display)面板
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成光刻机的真空相关部件进行检漏且要求清洁无油, 满足无尘室使用要求
2022-08-04 17:18 伯东企业(上海)有限公司 企业号
,其电子束光刻设备在芯片制造的光刻工艺中起着关键作用。然而,企业所在园区周边存在众多工厂,日常生产活动产生复杂的振动源,包括重型机械运转、车辆行驶以及建筑物内部的
2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
成特定的图形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀机为铌酸锂 LiNbO3 薄膜
2024-09-13 10:59 伯东企业(上海)有限公司 企业号