半导体产业发展落后，这是已经形成的共识，也是以美国为首的西方国家打压我们的重点领域，因为被他们拿住了七寸，一时间，让不过人感觉我们的发展陷入了困境。
2020-03-19 11:21
和光刻胶： 光掩膜：如同芯片的蓝图，上面印有每一层结构的图案。 光刻机：像一把精确的画笔，能够引导光线在光刻胶上刻画出图案。 光刻胶：一种特殊的感光材
2025-01-28 16:36
光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。
2022-02-05 16:11
光刻掩膜简介 光刻掩膜（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，通常简称“mask”，是半导体制造过程中用于图案转移的关键工具，对于光刻工艺
2025-01-02 13:46
我们芯片制造在哪些方面被人卡脖子？其实主要就在EAD软件、光刻机、光刻胶三个方面。其中，光刻机主要由荷兰控制生产，光刻胶由日本控制生产，真正完全属于美国的产品就是EAD
2021-05-02 13:21
光刻胶是一种涂覆在半导体器件表面的特殊液体材料，可以通过光刻机上的模板或掩模来进行曝光。
2024-03-04 17:19
光刻胶在未曝光之前是一种黏性流体，不同种类的光刻胶具有不同的黏度。黏度是光刻胶的一项重要指标。那么光刻胶的黏度为什么重要？黏度用什么表征？哪些
2023-11-13 18:14
近日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻胶配套的光刻机预计12月底到货。
2019-12-04 15:24
光刻胶的组成：树脂（resin/polymer），光刻胶中不同材料的粘合剂，给与光刻胶的机械与化学性质（如粘附性、胶膜厚度、热稳定性等）；感光剂，感光剂对光能发生光化学反应；溶剂（Solvent
2022-10-21 16:40
光刻胶类型及特性光刻胶（Photoresist），又称光致抗蚀剂，是芯片制造中光刻工艺的核心材料。其性能直接影响芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介绍了光刻胶类型和
2025-04-29 13:59
