光刻掩膜版的制作是一个复杂且精密的过程，涉及到多个步骤和技术。以下是小编整理的光刻掩
2024-09-14 13:26
光刻掩膜（也称为光罩）和模具在微纳加工技术中都起着重要的作用，但它们的功能和应用有所不同。 光刻掩
2024-10-14 14:42
微流控光刻掩膜的制作过程涉及多个步骤，包括设计、制版、曝光、显影、刻蚀等，最终形成具有特定图形结构的掩膜版。
2024-08-08 14:56
在正性光刻过程中，掩膜版（Photomask）作为图形转移的关键工具，其性能直接影响到最终图形的精确度和质量。以下是正性光刻对掩
2024-12-20 14:34
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
正性光刻对掩膜版的要求主要包括以下几个方面： 基板材料：掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、稳定性以及表面平整度。石英
2025-02-17 11:42
光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。 掩膜版有两种：一种
2024-09-04 14:55
掩膜版作为微纳加工技术中光刻工艺所使用的图形母版，在IC、平版显示器、印刷电路版、微机电系统等领域具有广泛的应用。随着信息技术和智能制造的快速发展，特别是智能手机、平板电脑、车载电子等市场的快速增长
2025-02-19 16:33
掩膜版保护膜，mask pellicle，是一种透明的薄膜，在生产中覆盖在掩膜版的表面。顾名思义，主要对
2024-01-04 18:15
