在万物互联，AI革命兴起的今天，半导体芯片已成为推动现代社会进步的心脏。而光刻(Lithography)技术，作为先进制造中最为精细和关键的工艺，不管是半导体芯片、MEMS器件，还是微纳光学元件都离不开光刻工艺的参与
2024-08-26 10:10
半导体制造工艺之光刻工艺详解
2023-08-24 10:38
外，学生还就感兴趣的课题做深入调研。师生共同讨论调研报告，实现教学互动。调研的内容涉及光刻工艺、光刻成像理论、SMO、OPC和DTCO技术。
2023-07-07 11:21
“ 光刻作为半导体中的关键工艺，其中包括3大步骤的工艺：涂胶、曝光、显影。三个步骤有一个异常，整个光刻工艺都需要返工处理，因此现场异常的处理显得尤为关键”
2024-10-22 13:52
分辨率增强及技术(Resolution Enhancement Technique, RET)实际上就是根据已有的掩膜版设计图形，通过模拟计算确定最佳光照条件，以实现最大共同工艺窗口(Common Process Window)，这部分工作一般是在新光刻工艺研发的
2024-10-18 15:11
。 本文探讨了位置反馈技术在现代光刻工艺中的应用，以及最新光栅系统和传统激光尺系统各自的优势与潜能，这些特性为机器设计人员提供了极大的灵活性，使其能够探索如何在不影响性能的前提下最大程度地减少光刻设备
2019-05-08 15:27
用光作为画笔在微纳米世界中作画。
2023-12-28 16:00
很大的差距。那么中国光刻工艺与国外顶尖公司究竟相差多少代技术呢？ 半导体制造工艺复杂，制造一颗芯片要经过很多的工序，每一个工序都有核心的技术，光刻也是其中之一，***是半导体产业中重要的设备
2019-06-16 11:18
在 MEMS（微机电系统）制造领域，光刻工艺是决定版图中的图案能否精确 “印刷” 到硅片上的核心环节。光刻 Overlay（套刻精度），则是衡量光刻机将不同层设计图案对准精度的关键指标。
2025-06-18 11:30
作为光刻工艺中最重要设备之一，光刻机一次次革命性的突破，使大模集成电路制造技术飞速向前发展。了解提高光刻机性能的关键技术以及了解下一代光刻技术的发展情况是十分重要的。
2020-08-28 14:39
