光刻的本质是把制作在掩膜版上的图形复制到以 后要进行刻蚀和离子注入的晶圆上。其原理与照相 相似，不同的是半导体晶圆与光刻胶代替了照相底 片与感光涂层。
2016-06-08 14:55
一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12
先进光刻工艺EUV相关知识，适合对半导体工艺有兴趣的人员，或者是从事光刻工艺的工程师
2022-06-13 14:48
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术的研究生课程，而开设课程
2021-10-14 09:58
为了提高硅片光刻工艺中 — 涂胶及软烘两操作的实验效率，减少手工操作可能带来对硅片表面的污染。系统采用机械手代替手工完成硅片在各工位之间自动化传输。硬件部分采
2009-12-14 16:05
自戈登·摩尔于1965年提出关于每平方英寸集成电路上的晶体管数量翻倍的著名论断以来，半导体行业似乎一直都在不断突破物理定律的掣肘，以便能跟上这一节奏。而光刻工艺行业尤为如此。
2017-09-12 19:27
本章将介绍基本芯片生产工艺的概况，主要阐述4中最基本的平面制造工艺，分别是：薄膜制备工艺掺杂工艺光刻工艺热处理
2021-04-08 15:51
【摘要】基于常规正方形结构开口环谐振器制作线性相位滤波器时，耦合缝太窄而不适合常规光刻工艺的加工，研究了高温超导开口环谐振器间的混合耦合，提出了适合常规光刻
2009-03-14 15:14
