一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路
2020-07-07 14:22
下面的资料会丝毫不缺的给大家发到邮箱资料一：资料二：下面的八个项目都会给大家带上的我们的工具包，全部支持我们的2012版软件下面的例程都会给大家带上的需要的话 qq：271604202
2014-03-17 14:48
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12
`请问PCB蚀刻工艺质量要求有哪些？`
2020-03-03 15:31
串行输入八个12位的数据，请问如何将这八个12位的数据并行输出？
2017-04-01 12:41
介质层上的光致抗蚀剂薄层上。 ②刻蚀工艺：利用化学或物理方法，将抗蚀剂薄层未掩蔽的晶片表面或介质层除去，从而在晶片表面或介质层上获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的，因而光刻工艺
2012-01-12 10:51
24L01八个引脚的怎么识别？？？？？？？？？？？？？
2014-02-17 15:38
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
八个智能家居的设计资料，错过绝对后悔
2021-12-23 07:36
