光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座
2019-07-01 07:22
交流电的三要素分别是什么？三极管实现放大作用的外部条件是什么？
2021-09-27 06:17
通信协议的三要素是什么？
2021-10-27 07:32
在我用photodiode工具选型I/V放大电路的时候，系统给我推荐了AD8655用于I/V，此芯片为CMOS工艺 但是查阅资料很多都是用FET工艺的芯片，所以请教下用于光电信号放大转换（主要考虑信噪比和带宽）一般我们用哪种
2025-03-25 06:23
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
晶体管管芯的工艺流程？光刻的工艺流程？pcb制版工艺流程？薄膜制备工艺流程？求大佬解答
2019-05-26 21:16
。IBM采用0.18um光刻工艺制成的120GHz Ft SiGe晶体管是一个很好的例子。 处理这一例子，锗化硅工艺技术还在哪些高速通信领域应用呢？
2019-07-30 07:56
LED技术的优缺点介绍
2021-01-01 06:05
或系统在共同的电磁环境条件下，既不受电磁环境的影响，也不会给环境以干扰。 EMC是业界的一个难点；文章介绍了EMC三个规律、EMC问题三要素、电磁骚扰的特性、以及五层次EMC设计法；给企业提供了对待
2019-07-24 08:18
