一、光刻胶的选择光刻胶包括两种基本的类型：正性光刻和负性光刻，区别如下
2021-01-12 10:17
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
中国科学院大学（以下简称国科大）微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院，国科大微电子学院开设的《集成电路先进光刻技术与版图设计优化》课程是国内少有的研究讨论光刻技术
2021-10-14 09:58
，小米9pro，oppo Reno3以及vivo X30）分别采用了什么芯片？ 3协同通信的方式有哪些？ 4大数据及认知无线电（名词解释） 4半导体工艺的4个主要步骤： 4简叙半导体光刻技术基本原理 4给出4个全球著
2021-07-26 08:31
有人知道 为什么光刻完事 剥离那么容易脱落呢 怎么避免呢
2012-06-26 12:40
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
单片机。内存ROM与RAM，存程序的地方。管脚有电源，复位，晶振和 IO 口这 4 类管脚。前三者是单片机工作基础三要素。IO 口能识别按健的输入，也能输出驱动继电器工作的开关信号，也能跟外围器件进行通信。电平高（1），低（0）是一个范围，不是只是0V和3.3V才
2022-01-20 06:53
湿法蚀刻工艺的原理是使用化学溶液将固体材料转化为液体化合物。选择性非常高，因为所用化学药品可以非常精确地适应各个薄膜。对于大多数解决方案，选择性大于100：1。
2021-01-08 10:12
`UWB室内定位技术原理及优缺点室内定位技术在现今市场正处于蓬勃发展的状态，除了常见的蓝牙、WIFI、地磁等，UWB技术也极为重要，而它的定位原理和
2021-02-14 22:07
（函数列表）2.4 LwIP 的三种编程接口2.4.1 RAW/Callback API2.4.2 NETCONN API2.4.3 SOCKET API2.1 LwIP 的优缺点此文以 LwIP 2.
2022-01-20 06:25
