刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业(上海)有限公司 企业号
实验名称:辉光放电特征及风速测量原理 研究方向:辉光放电 测试设备:信号发生器、ATA-8202射频功率放大器,热成像仪、万用表、等离子体传感器 实验过程:在等离子体形成条件和流场响应
2024-07-19 10:40 Aigtek安泰电子 企业号