翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
什么是多级衍射透镜（MDL）？与传统的摄像头相比较，多级衍射透镜（MDL）有哪些优势以及应用价值？
2021-07-04 06:55
老板让我找找几十GHZ附近透镜天线所用的透镜材料，苦于找不到相关资料，请问有人了解吗？
2015-11-18 15:09
PIR透镜有室内使用和室外使用的区分吗？有什么差别呢？
2016-04-19 10:56
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
1、引言在厘米波段，许多光学原理可以用于天线方面。光学中，利用透镜能使放在透镜焦点上的点光源辐射出平面波。同理介质透镜在厘米波段和毫米波段内能够十分有效的产生高方向性波束，同时介质材料价格低廉，能量
2019-06-13 07:02
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
MEMS(微机电系统)是指集微型传感器、执行器以及信号处理和控制电路、接口电路、通信和电源于一体的微型机电系统。
2019-10-16 08:34
什么是RF MEMS？有哪些关键技术与器件？微电子机械系统(MicroElectroMechanicalSystem)，简称MEMS，是以微电子技术为基础而兴起发展的，以硅、砷化镓、蓝宝石等为衬底
2019-08-01 06:17
用那种型号的单片机和mems陀螺仪配合使用？谢谢大神指导我这位小学生
2017-03-21 20:05
