光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统
2020-10-16 10:33
光刻机的曝光方式主要有三种，分别是接触式曝光、非接触式曝光和投影式曝光。
2022-01-03 17:31
光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。
2020-09-30 16:17
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统
2020-10-09 11:29
光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统
2018-04-10 09:49
Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。 光刻（
2020-08-28 14:39
光刻机是芯片制造的核心设备之一。目前有用于生产的光刻机，有用于LED制造领域的光刻机，还有用于封装的光刻机。光刻机是采用
2022-02-05 16:03
本文主要介绍光刻机的分类与原理。 光刻机分类 光刻机的分类方式很多。按半导体制造工序分类，光刻设备有前道和后道之分。前道光刻
2025-01-16 09:29
本文介绍了组成光刻机的各个分系统。 光刻技术作为制造集成电路芯片的重要步骤，其重要性不言而喻。光刻机是实现这一工艺的核心设备，它的工作原理类似于传统摄影中的
2025-01-07 10:02
目前，光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV是深紫外线，EUV是非常深的紫外线。DUV使用的是极紫外光刻技术，EUV使用的是深紫外
2022-07-10 14:53
