1. 引言 镀膜技术是一种在基材表面形成薄膜的技术，广泛应用于光学、电子、机械、建筑等领域。二氧化硅作为一种常见的无机材料，因其良好的光学性能、化学稳定性和机械强度，在镀膜技术中得到了广泛应用
2024-09-27 10:10
二氧化氯发生器是由釜式反应器通过耐酸导管和水射式真空机组组成的，一种操作简单、高转化率、高纯度、多用途、环保型化学法中、小型二氧化氯多级发生器。
2021-10-01 17:24
二氧化硅是芯片制造中最基础且关键的绝缘材料。本文介绍其常见沉积方法与应用场景，解析SiO₂在栅极氧化、侧墙注入、STI隔离等核心工艺中的重要作用。
2025-04-10 14:36
在线式二氧化氯检测仪，适用于各种工业环境和特殊环境中的二氧化氯浓度连续在线检测，分析二氧化氯浓度；现场带报警功能（高低报警可调），防爆接线方式适用于各种危险场所。仪器兼容各种报警控制器、PLC、DCS 等控制系统，可
2021-07-02 15:25
二氧化硅它是属于光纤的主要制作材料
2021-12-21 15:30
AMT-CL301型在线二氧化氯变送器是带微处理器的水质在线监测控制仪。通过二氧化氯电极对水溶液中的二氧化氯值及温度值进行连续监测和控制。 特征 点阵液晶屏显示； 中/英文智能菜单操作； 多种信号
2023-05-23 14:07
背景二氧化硅薄膜具有硬度大、防腐蚀性、耐潮湿性和介电性能强等优点，因此二氧化硅薄膜在半导体行业中可以用作器件的保护层、钝化层、隔离层等。 PECVD即等离子体增强化学的气相沉积法是借助微波或射频等使
2020-09-29 15:07
在集成电路生产过程中，晶圆背面二氧化硅边缘腐蚀现象是一个常见但复杂的问题。每个环节都有可能成为晶圆背面二氧化硅边缘腐蚀的诱因，因此需要在生产中严格控制每个工艺参数，尤其是对边缘区域的处理，以减少这种现象的发生。
2025-07-09 09:43
二氧化钒（VO₂）材料是一种具有绝缘态到金属态可逆相变特性的材料，在光器件及信息技术中有非常广泛的应用。
2023-02-23 10:01
二氧化硅薄膜实现增透的原因主要涉及以下几个方面： 1. 折射率匹配 折射率特性 ：二氧化硅（SiO₂）的折射率相对较低，这使得它能够作为一层有效的增透膜（或称为减反射膜）。当光线从一种介质进入另一种
2024-09-27 10:22
