翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
近五年以来有哪些信号放大器被研究出来了？高频信号放大器，宽带功率放大器，有较高增益的信号放大器，需要公布时间，开发院校或企业，放大器参数等信息。
2021-06-12 16:50
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:49 编辑 大侠们，谁有这方面的资料可以共享下，想研究出一个能探测地下金属的东西电子产品玩玩，我自己本身是做硬件电子开发的，不过不涉及这块，大侠们，有资料记得分享下万分感谢{:soso_e100:}
2012-10-24 15:20
荷兰设计师JeltevanGeest为图书馆设计的自动跟随椅子Takeaseat，有谁研究过啊？跟人不难，但是跟如何特定的人呢？我查阅了大量的资料，资料显示是运用的RFID室内定位系统，但是怎么把RFID跟特定的人联系起来的我就不清楚了，有大虾
2012-11-30 19:50
在波形图表采集完成后，怎样将数据和对应的采集时间自动保存到制定路径文件夹excel中现在只研究出将波形图在采集完成后自动保存
2016-08-12 16:41
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本章将介绍村田制作所研究出的解决移动设备温度上升问题的对策，这就是具备减少温度变化时频移量这一特征的Temperature Compensated-Surface Acoustic Wave （TC-SAW）。
2019-09-19 06:26
前几天手贱用指针万用表1000伏量电蚊拍的电压 ，结果烧掉了好像。但是也没有发现那里有烧过的痕迹，万用表的现象是所有量程指针的摆动都偏小。自己研究了很久没有研究出个什么名堂，还请高人指点！
2013-03-18 23:38
