无法找到确切的必需属性1.峰值温度（°C）2.最高峰值时间（秒）：3.加速率（°C /秒）4.液体以上的时间（秒）5.降幅（°C /秒）6.时间达到峰值7.No.回流循环（对于Pb和PB自由曲线）问候，托马斯里根。
2020-07-13 16:09
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
对于频宽与传输速率的需求也越来越大。为满足METIS所勾勒2020年的使用情境，就最高峰值传输速率而言，必须是目前传输速率的10到100倍；移动数据容量则必须是2010年的1000倍。要达到METIS所
2019-07-10 07:46
本帖最后由 一只耳朵怪 于 2018-6-19 15:19 编辑 1.我在文档里看到GEN1 PCIE最高可配置2.5Gbps，GEN2 PCIE最高可配置为5.0Gbps，请问这里说的
2018-06-19 04:36
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
高峰期真心桑不起啊！堵车也是一门艺术有木有！你看北京堵成了一把大提琴。 武汉是有法国浪漫主义情节蛮？堵成了埃菲尔铁塔。 西安就厉害了，堵成了一桌麻将。 堵车心情，怎一个“糟”字了得！不能改变堵车
2013-06-29 10:02
我们都知道51单片机是用的TTL电平。既然单片机用0v代表0，用5v代表1.那么2.5v代表什么。比如
2019-09-08 23:57
