EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯
2021-07-29 09:36
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DUV
2020-07-07 14:22
中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm，若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3n
2021-03-10 14:36
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上
2022-07-10 14:53
，国际上有些厂商已抛却了研发7nm制程芯片，中国***的联电科技宣告抛却7nm制程及更先进工艺的研发，研发7nm支持这家公司就是
2018-10-05 08:16
ASML澄清：中芯国际批量购买光刻机，仅限DUV！近日，中
2021-03-14 09:21
据中国证券报报道，3月6日下午从中芯国际获悉，日前中芯国际深圳工厂从荷兰进口了一台大型
2020-03-07 10:55
中国晶圆厂，ASML对此表示乐观。 两边对比的话，这家中国公司就是中芯国际，虽然该公司的14nm工艺要到2019年初才能量产，不过国内有需求EUV
2018-05-20 10:32
）光刻机，价值1.2亿美元。目前，业内已达成共识，必须使用EUV光刻机才能使半导体芯片进入7nm，甚至5nm时代。今天，中
2018-05-26 01:54
DUV已经能满足绝大多数需求：覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米。
2022-07-06 15:56
