EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯
2021-07-29 09:36
，它们与光刻机被称为半导体制造三大关键设备，而中微的5nm等离子蚀刻机已经具备了国际竞争力。等离子刻蚀
2020-03-09 10:13
风光互补技术及应用新进展 [hide]风光互补技术及应用新进展.rar[/hide] [此贴子已经被作者于2009-10-22 11:52:24编辑过]
2009-10-22 11:51
风光互补技术原理及最新进展摘要： 简要回顾国内外风电、光伏技术与应用发展态势，结合风光互补系统应用， 分析、介绍了风光互补LED路灯照明系统、智能控制器设计、分布式供电电源、风光互补水泵系统，并着重
2009-10-26 13:45
风光互补技术及应用新进展摘要： 简要回顾国内外风电、光伏技术与应用发展态势，结合风光互补系统应用， 分析、介绍了风光互补LED路灯照明系统、智能控制器设计、分布式供电电源、风光互补水泵系统，并着重
2009-10-19 15:11
开关电源电磁兼容及其研究新进展Review on EMC studies of SMPS 内容一. 开关电源技术发展面临的EMC挑战二. 开关电源电磁干扰发射形成和传播三. 开关电源电磁干扰发射的抑制四. 开关电源电磁兼容研究新进展五. 结束语[
2009-12-23 15:44
电源管理半导体的新进展1979年电力电子学会在我国成立，此后，人们开始把用于大功率方向的器件称为电力半导体。由于微电子学把相关的器件称为微电子器件，从而也有了电力电子器件之称。电力半导体和电力
2009-12-11 15:47
非常开心地在这里和大家提前预告，我们即将发布VisionFive 2 集成 AOSP的最新进展！请大家多多期待吧~ 此次通过众多社区成员的支持和贡献(https://github.com
2023-10-08 09:15
台积电宣布5nm基本完工开始试产：面积缩小45%、性能提升15%.pdf(105.52 KB)
2019-04-24 06:00
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集成电路的MOSFET晶体管栅极
2021-07-29 07:19
