EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯
2021-07-29 09:36
，它们与光刻机被称为半导体制造三大关键设备，而中微的5nm等离子蚀刻机已经具备了国际竞争力。等离子刻蚀
2020-03-09 10:13
时期用上EUV光刻，国内的中芯国际也从ASML订购了一台EUV光刻机，但因为种种问题，现在交货时间还未明确。
2020-07-07 14:22
风光互补技术及应用新进展 [hide]风光互补技术及应用新进展.rar[/hide] [此贴子已经被作者于2009-10-22 11:52:24编辑过]
2009-10-22 11:51
十六分之一后成像（影像复制）在预涂光阻层的晶员（wafer）上。 对比相机和光刻机，被拍摄的物体就等同于微影制程中的光罩，聚光镜就是单反镜头，而底片（感光元件）就是预涂光阻层的晶圆。 是的
2020-09-02 17:38
开关电源电磁兼容及其研究新进展Review on EMC studies of SMPS 内容一. 开关电源技术发展面临的EMC挑战二. 开关电源电磁干扰发射形成和传播三. 开关电源电磁干扰发射的抑制四. 开关电源电磁兼容研究新进展五. 结束语[
2009-12-23 15:44
介绍IXIAIP测试平台和所提供测试方案的最新进展
2021-05-26 06:46
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外
2020-02-27 10:42
CMOS图像传感器最新进展及发展趋势是什么？
2021-06-08 06:20
ITU-T FG IPTV标准化最新进展如何？
2021-05-27 06:06
