EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯
2021-07-29 09:36
时期用上EUV光刻，国内的中芯国际也从ASML订购了一台EUV光刻机，但因为种种问题，现在交货时间还未明确。
2020-07-07 14:22
十六分之一后成像（影像复制）在预涂光阻层的晶员（wafer）上。 对比相机和光刻机，被拍摄的物体就等同于微影制程中的光罩，聚光镜就是单反镜头，而底片（感光元件）就是预涂光阻层的晶圆。 是的
2020-09-02 17:38
应用需求。因此，14nm还有很大的市场潜力。大陆代工厂也为14nm和下一阶段的先进工艺进行了大量的投入。 2月18日，中芯国际
2020-02-27 10:42
Intel正在野心勃勃地打造22nm新工艺、Silvermont新架构的智能手机、平板机处理器，而接下来的14nm路线图也已经曝光了。 根据规划，在平板机平台上，Intel将于2014年
2013-08-21 16:49
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
和二硫化钼（MoS2）制作而成。MoS2将担起原本半导体的职责，而纳米碳管则负责控制逻辑门中电子的流向。眼下，这一研究还停留在初级阶段，毕竟在14nm的制程下，一个模具上就有超过10亿个晶体管，而要
2016-10-08 09:25
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
，它们与光刻机被称为半导体制造三大关键设备，而中微的5nm等离子蚀刻机已经具备了国际竞争力。等离子刻蚀
2020-03-09 10:13
14nm工艺的肖特基二极管和与非门导通延时是多少皮秒啊
2018-06-17 13:21
