将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32
2019-07-01 07:22
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
据新华社7月2日报道，相变存储器，具有功耗低、写入速度快、断电后保存数据不丢失等优点，被业界称为下一代存储技术的最佳解决方案之一。记者近日从中科院上海微系统所获悉，由该所研发的国际领先的嵌入式相变存储器现已成功应用在
2019-07-16 06:44
研究机构IMEC已经发表了一篇论文，该研究表明，在5nm节点上，STT-MRAM与SRAM相比可以为缓存提供节能效果。这种优势比非易失性和较小的空间占用更重要。
2019-10-18 06:01
单面板的设计制造，单面板的主体是坚硬的绝缘材料，是环氧树脂玻璃纤维或者FR4，称之为基板，铜材料通过胶粘或者电沉积的方式贴在电路板的一面称为顶面。 光刻技术原理过程： 1、铜金属层包覆上一种叫做
2024-06-16 11:17
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
XX nm制造工艺是什么概念？为什么说7nm是物理极限？
2021-10-20 07:15
这门课，就比如存储器的分段和物理地址的形成，就特别可恶，段地址x10H等效于向左移四位，10H不是等于16D吗，怎么会是4呢，还有好多好多书上都是一笔带过，真是的，还是中科院编的，尼玛中科院的那些人
2013-10-08 14:53
紫外刻写光纤光栅平台的搭建提供从平台设计、核心光路系统设计，平台搭建、模块调谐到用户培训完整的刻写平台搭建服务，公司先后成功成功为中科院、中国电科集团等多家单位搭建刻写平台，尤其在核心的光学系统
2016-12-29 20:39
光刻掩膜设计与加工制造服务，请问可以加工二元光学器件吗？相位型光栅那种.
2024-04-22 06:24
