）光刻技术，而GlobalFoundries当年也曾经研究过7nm EUV工艺，只不过现在已经放弃了。 而使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机就是EUV
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的
2021-07-29 09:36
%，Lam Research为10亿美元，占台积电采购额的9%，迪恩士占5%，KLA占4%。ASML目前，全球仅有ASML一家公司掌握着EUV光刻机的核心技术，这也是5nm
2020-03-09 10:13
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
`中科院拥有国内乃至国际一流的创新性研发机构和科研团队、凝聚着全球最优秀的科学家，实力雄厚。如今中科院深化在网络摄像机领域的探索，携手ithink公司震撼推出国内首款内
2015-02-05 10:09
大多数快速成长起来的新兴产业一样，关键技术储备欠缺，持续竞争力培育不够，研发投入不足，创新能力不强，同质化竞争加剧，产品良莠不齐……各种各样的问题接踵而至。 这让中科院院长白春礼深感忧虑。就在上周刚刚
2012-07-18 11:31
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
中科院电子技术考研真题
2011-08-07 15:04
