上海伯东客户日本某生产半导体用光刻机公司, 光刻机真空度需要达到 1x10-11 pa 的超高真空, 因为设备整体较大, 需要对构成
2022-08-04 17:18 伯东企业（上海）有限公司 企业号
半导体设备光刻机防震基座在 LCD 面板制造曝光机中的成功应用案例-江苏泊苏系统集成有限公司一、案例背景在 LCD（Liquid Crystal Displ
2024-12-24 14:43 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
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2025-01-07 15:13 江苏泊苏系统集成有限公司 企业号
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2021-11-08 13:00 江苏安科瑞电器制造有限公司 企业号
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2022-03-18 10:25 北京革新创展科技有限公司 企业号
支持一体化实验室建设：5nm集成电路“虚实联动”线下实验室建设。支持科研课题与文章发表支持教育部A类学科竞赛产业场景：自动化建造系统、EUA光刻机、商用仿真器14纳米级别……一、人工智能与集成电路
2024-01-03 11:12 北京革新创展科技有限公司 企业号
