半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集
2021-07-29 07:19
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻
2020-02-27 10:42
半导体失效分析项目介绍，主要包括点针工作站（Probe Station）、反应离子刻蚀（RIE）、微漏电侦测系统（EMMI）、X-Ray检测，缺陷切割观察系统（FIB系统）等检测试验。
2020-11-26 13:58
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电，用于扩充5nm，以及7nm产能。中微半导体除光刻
2020-03-09 10:13
) P型半导体在本征半导体中掺入微量的三价元素（如硼）就形成P型半导体，结构示意如图1-3所示。可见每掺入一个三价原子，
2017-07-28 10:17
近年来，全球半导体功率器件的制造环节以较快速度向我国转移。目前,我国已经成为全球最重要的半导体功率器件封测基地。如IDM类（吉林华微电子、华润微电子、杭州士兰微电子、比亚迪股份、株洲中车时代
2021-07-12 07:49
5mWNEWRLD63NZC5开发中RLD63NPC5用途 ■ 标线■ 测距■ 传感器■ 条形码阅读器■ 激光笔除了传感器用635nm频带纯红色半导体激光器 RLD63NZC5系列以外，还采用独创的技术，根据客户需求
2014-07-30 22:49
材料的状况。而面板产业，中国产能更大，也有替代之选，生产设备上则有市占率更高的欧洲厂商可以选择。 目前日韩的半导体巨头三星、SK海力士等并未停工，都在运转中。短期来看，影响尚不明显，但是一旦疫情继续恶化
2020-02-27 10:45
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波
2017-11-14 16:24
