上。 刻蚀只去除曝光图形上的材料。 在芯片工艺中，图形化和刻蚀过程会重复进行多次。2017年3月11日，据CCTV2财经频道节目的报道，
2017-10-09 19:41
随着半导体产业技术的不断发展，芯片制程工艺已从90nm、65nm、45nm、32nm、22
2019-12-10 14:38
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
们的投入中，80%的开支会用于先进产能扩增，包括7nm、5nm及3nm，另外20%主要用于先进封装及特殊制程。而先进工艺中所用到的EUV极紫外光刻
2020-02-27 10:42
45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电，用于扩充5nm，以及7nm产能。中微半导体除光刻
2020-03-09 10:13
新加坡知名半导体晶圆代工厂招聘资深刻蚀工艺工程师和刻蚀设备主管！此职位为内部推荐，深刻蚀工艺工程师需要有LAM 8寸机台poly
2017-04-29 14:23
10nm、7nm等到底是指什么？芯片工艺从目前的7nm升级到3nm后，到底有多大提升呢？
2021-06-18 06:43
、250W、320W、400W输出波长：808nm，915nm，940nm，980nm，特殊波长可以订制 波长范围：+/-10n
2009-12-08 09:34
”。目前中国中微半导体的5 nm等离子体刻蚀机已经通过台积电验证，与国际刻蚀
2019-08-10 14:36
从7nm到5nm，半导体制程芯片的制造工艺常常用XXnm来表示，比如Intel最新的六代酷睿系列CPU就采用Intel自家的14nm++制造工艺。所谓的XXnm指的是集
2021-07-29 07:19
