，以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。刻蚀（英语：etching）是半导体器件制造中利用化学途径选择性地移除沉积层特定部分的工艺。刻蚀对于器件的电学性能十分重要。如果
2017-10-09 19:41
半导体光刻蚀工艺
2021-02-05 09:41
据浦东时报报道，2020年开年，中微半导体成功中标长江存储9台刻蚀设备订单。
2020-01-08 10:49
半导体湿法刻蚀残留物的原理涉及化学反应、表面反应、侧壁保护等多个方面。 以下是对半导体湿法刻蚀残留物原理的详细阐述： 化学反应
2025-01-02 13:49
在台积电宣布明年将进行5纳米制程试产、预计2020年量产的同时，国产设备亦传来好消息。日前上观新闻报道，中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀
2018-12-18 15:10
编辑：感知芯视界 来源：EETOP 2023年7月11日——中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，上
2023-07-12 13:45
新加坡知名半导体晶圆代工厂招聘资深刻蚀工艺工程师和刻蚀设备主管！此职位为内部推荐，深刻蚀工艺工程师需要有LAM 8寸机台poly
2017-04-29 14:23
刻蚀是半导体制造中十分关键的一环，刻蚀通过物理或化学方法将硅片表面不需要的材料去除，从而将掩膜图形正确的复制到涂胶硅片上。
2021-02-23 16:41
近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码“688012.SH”）宣布通过不断提升反应台之
2025-03-27 15:46
