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  • 光刻机是干什么用的

    十六分之一后成像(影像复制)在预涂光阻层的晶员(wafer)上。  对比相机和光刻机,被拍摄的物体就等同于影制程的光罩,聚光镜就是单反镜头,而底片(感光元件)就是预涂光阻层的晶圆。    是的

    2020-09-02 17:38

  • 光刻机工艺的原理及设备

    实际过程肯定没这么简单,上图是ASML典型的沉浸式步进扫描光刻机为例来看下光刻机是怎么工作的——首先是激光器发光,经过矫正、能量控制器、光束成型装置等之后进入光掩膜台,上面放的就设计公司做好的光掩膜

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复

    2021-07-29 09:36

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线.接触或接近式光刻机的主要优点是生产效率较高。 ◆接触式

    2012-01-12 10:56

  • 振奋!半导体国产5纳米刻蚀助力中国芯

    上。 刻蚀只去除曝光图形上的材料。 在芯片工艺,图形化和刻蚀过程会重复进行多次。2017年3月11日,据CCTV2财经频道节目的报道,AMEC正在研制目前世界最先进的5

    2017-10-09 19:41

  • 成都力得纳光科技有限公司公司本着“诚信,创新”的原则,长期从事光学微结构

    纳米薄膜等方面相关业务。1、激光直写(最小精度:0.6μm) 适用范围从干版,铬版到无掩模光刻;2、光刻复制及纳结构刻蚀传递;3、

    2017-05-09 10:54

  • 全球进入5nm时代

    45-50台的交付量。这其中很大一部分都供给了台积电,用于扩充5nm,以及7nm产能。半导体除光刻机之外,蚀刻也是

    2020-03-09 10:13

  • 单片IC芯片开发之刻蚀的作用

    制造过程,步骤会因为不同的材料和工艺而有所差异,不过大体上皆采用这样的类似工艺过程,于是就需要用到光刻机和刻蚀。首先,在晶圆表面沉积一层薄膜,紧接着再涂敷上光刻胶(

    2018-08-23 17:34