成特定的图形才能用于芯片, 因 LiNbO3 惰性特性, 使用 ICP 或 RIE 工艺无法完成刻蚀, 上海伯东 IBE 离子束刻蚀
2024-09-13 10:59 伯东企业（上海）有限公司 企业号
上海伯东美国 KRi 大尺寸考夫曼离子源 KDC 160 适用于 2-4英寸的硅片刻蚀和清洁应用, KRi KDC 160 是直流栅网离子源, 高输出离子束电流超过 1000mA. 高功率光束无需
2024-09-13 10:10 伯东企业（上海）有限公司 企业号
为了控制会议音箱的同步问题，最简单的办法就是采用FPGA芯片来控制多个音箱时钟同步。 在此提一下京微齐力的FPAG HME-HR02PN3Q32，因为是在室内应用，所以
2022-07-22 09:48 国芯思辰（深圳）科技有限公司 企业号
实验名称：功率放大器在船舶压载水中微藻分离芯片的实验研究中的应用实验目的：实现微藻细胞与尺寸相近的聚苯乙烯微粒高效率自动连续的分离实验设备：信号发生器、ATA-4012
2022-11-23 14:10 Aigtek安泰电子 企业号
刻蚀是半导体制造中最常用的工艺之一, 上海伯东日本 Atonarp Aston 质谱仪适用于等离子体刻蚀过程及终点监测 (干法刻蚀终点检测), 通过持续监控腔室工艺化学气体, 确保半导体晶圆生产
2024-10-18 13:33 伯东企业（上海）有限公司 企业号
一、系统简介北京革新创展科技有限公司提供的51单片机实验开发系统方案，是《MCS-51单片机原理与接口》《单片机控制技术》《自动化控制》《EDA》等课程教学的最佳配套实
2022-03-18 10:25 北京革新创展科技有限公司 企业号
