将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV
2018-06-13 14:40
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
陈虎点兵：无人机“战国时代”，中国必须破解三大挑战 最近网络上曝出2015号歼20试验机首飞，引起军迷们的关注。歼20的研发不断取得进展，标志着在四代机国际竞争中形成了中、美、俄三国竞争时代。
2020-05-15 07:53
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
中国RFID标准方案——《DPC与商联网白皮书》；北京实华开信息技术有限公司总裁曾强提出以收购或合营的方式完成对IP-X标准的知识产权国产化。
2019-10-14 07:28
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
现在两者之间简单的AT指令的设置，可以进行通信，当单片机相应初始化完成后，GSM 等待接收短信…当外界给该模块发完短信后，单片机会重启，再次初始化，请问这是怎么回事
2015-01-24 23:56
