，所以光刻机就选择了改变光源，用13.5nm波长的EUV取代193nm的DUV光源，这样也能大幅提升光刻机的分辨率。 在上世纪90年代后半期，大家都在寻找取代193n
2020-07-07 14:22
把被摄物体的影像复制到底片上。 而ASML光刻机在做的光刻，我们称之为微影制程，原理是将高能雷射光穿过光罩（reticle），将光罩上的电路图形透过聚光镜（projectionlens），将影像缩小
2020-09-02 17:38
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
本帖最后由 gk320830 于 2015-3-9 00:46 编辑 90年代的电脑机箱。就是结实。很厚的铁板。很结实，很防辐射。比现在的东西好太多了。倒腾了一个，换上了。哈哈。顺便把我自己做的小音响放在了机箱里面。呵呵。
2012-10-17 19:03
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
14nm工艺量产的计划，中芯国际是在今年下半年量产，华虹是将在2020年量产，但制程工艺确实是要比台积电等公司落后两代以上。在芯片制造领域制约我国晶圆代工企业发展的，主要是两大部件：“刻蚀机”与“
2019-08-10 14:36
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，
2018-06-13 14:40
依然是世界老二。大家知道尼康是做相机的，在20世纪60年代之前，尼康是不做光刻机的。那时候的光刻机是谁做？20世纪50年代到60
2024-11-04 12:00
