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  • 光刻机是干什么用的

    简单的例子,我们在拍照的时候,时而追求所谓的背景虚化效果。这种虚化效果可以突显拍摄主体,使得照片更有质感。这种在对焦点前后相对清晰的影像范围,我们称之为景深。而镜头(光圈)愈大,景深愈浅。  光刻机

    2020-09-02 17:38

  • 光刻机工艺的原理及设备

      关于光刻工艺的原理,大家可以想象一下胶片照片的冲洗,掩膜版就相当于胶片,而光刻机就是冲洗台,它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上,然后通过刻蚀技术把电路“画”在晶圆上。    当然

    2020-07-07 14:22

  • 魂迁光刻,梦绕芯片,中芯国际终获ASML大型光刻机 精选资料分享

    据羊城晚报报道,近日中芯国际从荷兰进口的一台大型光刻机,顺利通过深圳出口加工区场站两道闸口进入厂区,中芯国际发表公告称该光刻机并非此前盛传的EUV光刻机,主要用于企业复工复产后的

    2021-07-29 09:36

  • 如果国家以两弹一星的精神投入光刻机

    如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造,结果会怎样?

    2020-06-10 19:23

  • 电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极

    电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步,对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关,电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长,而电子束聚焦后

    2025-05-07 06:03

  • EUV热潮不断 中国如何推进半导体设备产业发展?

    ,购买或者开发EUV光刻机是否必要?中国应如何切实推进半导体设备产业的发展?EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻,是一种应用于现代集成电路制造的

    2017-11-14 16:24

  • 三种常见的光刻技术方法

    微米之间,此间隙可以大大减少对掩膜版的损伤.接近式暴光的分辨率较低,一般在2~4微米之间,因此接近式光刻机只能装配在特征尺寸交大的集成电路生产线中.接触或接近式光刻机的主要优点是

    2012-01-12 10:56

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5

    2018-06-13 14:40

  • 请问下,中国什么时候能够普及数字电视?

    请问下,中国什么时候能够普及数字电视?

    2010-03-29 11:15

  • 振奋!中微半导体国产5纳米刻蚀助力中国

    上。 刻蚀只去除曝光图形上的材料。 在芯片工艺中,图形化和刻蚀过程会重复进行多次。2017年3月11日,据CCTV2财经频道节目的报道,中微AMEC正在研制目前世界最先进的5纳米等离子刻蚀,将于2017年底将量产。

    2017-10-09 19:41