近日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司用于KRF248nm光刻胶配套的光刻机已完成厂内安装开始调试，ARF193nm光刻
2019-12-04 15:24
光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深
2022-06-30 09:46
这次美荷谈判的重点就是193nm ArF dry 光刻机，如果这类型设备也不能卖，对asml来说那差距将达到一百台，40亿美金左右的销售额。
2022-12-16 12:04
光刻机是制作芯片并不可少的重要工具，大家都知道，光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断，那么全球最先进的光刻机是多少nm的？中国
2022-07-06 10:07
今日南大光电发布公告称，其控股子公司 “宁波南大光电”自主研发的 ArF（193nm）光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。报告显示，“本次认证选择客户 50nm 闪存产品中的控制栅进行验证，宁波南
2020-12-18 09:29
光刻机和euv光刻机区别是是什么呢？ duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm，而euv能够做到
2022-07-10 14:53
，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。
2020-03-18 10:52
ASML的EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。一台EUV
2020-10-19 12:02
早在2015年，南大光电入股北京科华并对外宣称，双方将共同开展193nm光刻胶的研究与产品开发；如今，或许进展不顺等原因影响，南大光电将全部转让其持有的北京科华股权。
2019-06-24 08:46
本文介绍了用来提高光刻机分辨率的浸润式光刻技术。 芯片制造：光刻技术的演进 过去半个多世纪，摩尔定律一直推动着半导体技术的发展，但当光刻机的光源波长卡在
2024-11-24 11:04
