光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
据我了解的，现在国产的光栅的价格比国外的要便宜一些。质量也是非常的好，价格有几百到几千的，要看所要的具体参数，之前定了上海光机所的，他们产业化公司是南京聚科光电技术有限公司，感觉还不错，大家互相探讨一下
2016-12-27 20:44
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
有了解AM335x的协处理器来做IO控制的吗？ 我目前看资料就只了解有PRU-ICSS这个协处理器，看了TI的一些维基百科的一些资料，知道要操作协处理器，必选要linux的SDK支持PRU，然后具体的就不知道怎么做了？
2018-11-29 16:52
今天无意中又看了看DS18B20的资料，百度百科中说：② 、测温范围 －55℃～+125℃，固有测温误差（注意，不是分辨率，这里之前是错误的）0.5℃。谁给说说固有测量误差和分辨率的区别？？那DS18B20的分辨率是多少？？精度又是多少？？求大神讲详细~~~~~~
2013-05-20 20:39
`609手持读数仪用于振弦测频率，目前市场有很多厂家在出售，但是看不到任何关于这个仪器的内部设计技术资料，比如电路和驱动程序，很奇怪，也没有百度百科介绍这个仪器的起源以及发展的资料，广大网友有没有关于仪器的电路和程序资料？`
2019-09-17 10:25
就了解过OTL电路，百度百科上说这个是OTL电路的升级，省去了输出端放大电容，使得系统的低频响应更加平滑，希望大家帮我分析下这个电路。
2019-01-15 16:34
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
有国产单片机吗？
2015-07-13 17:11
