关于光刻工艺的原理，大家可以想象一下胶片照片的冲洗，掩膜版就相当于胶片，而光刻机就是冲洗台，它把掩膜版上的芯片电路一个个的复制到光刻胶薄膜上，然后通过刻蚀技术把电路
2020-07-07 14:22
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，根据之前中芯国际的公报，目...
2021-07-29 09:36
芯片制造流程其实是多道工序将各种特性的材料打磨成形，经循环往复百次后，在晶圆上“刻”出各种电子特性的区域，最后形成数十亿个晶体管并被组合成电子元件。那光刻，整个流程中的一个重要步骤，其实并没有
2020-09-02 17:38
如果国家以两弹一星的精神投入光刻机的研发制造，结果会怎样？
2020-06-10 19:23
电子直写光刻机驻极体圆筒聚焦电极 随着科技进步，对电子显微镜的精度要求越来越高。电子直写光刻机的精度与电子波长和电子束聚焦后的焦点直径有关，电子波长可通过增加加速电极电压来减小波长，而电子束聚焦后
2025-05-07 06:03
。如，美国的高通、博通、AMD，中国***的联发科，大陆的华为海思、展讯等。国内单片机芯片：核心设备单片机芯片良品率取决于晶圆厂整体水平，但加工精度完全取决于核心设备，就是前面提到的“
2018-09-03 16:48
是分步投影光刻机.利用分步投影光刻机,再结合移相掩膜等技术,已经得到了最小线宽0.10微米的图形。 ◆接近式暴光与接触式暴光相似,只是在暴光时硅片和掩膜版之间保留有很小的间隙,这个间隙一般在10~25
2012-01-12 10:56
研发出全球首台利用紫外线光源实现22nm分辨率的光刻机，并且通过高深宽比刻蚀、多重曝光等工艺手段可以实现10nm以下的芯片生产。但是和ASML已经可以量产7nm、5nm的光刻机
2019-08-10 14:36
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波
2017-11-14 16:24
一条，制衡中国芯片发展，限制阿斯麦光刻机卖中国，禁止先进EDA工具卖给中国企业和高校，把TSMC忽悠到亚利桑那建3纳米fab。当然，TSMC也在担心美国人偷fab管理体
2022-12-05 15:44
