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  • 光刻机工艺的原理及设备

    的不断提升,光刻机缩激光波长也在不断的缩小,从436nm、365nm的近紫外(NUV)激光进入到246nm、193nm

    2020-07-07 14:22

  • EUV光刻机何以造出5nm芯片

    7nm之下不可或缺的制造设备,我国因为贸易条约被迟迟卡住不放行的也是一台EUV光刻机。 但EUV光刻机的面世靠的不仅仅是ASML一家的努力,还有蔡司和TRUMPF(通快)两家欧洲光学巨头的合作才得以成功。他们的技术分

    2021-12-07 14:01

  • EUV光刻机何以造出5nm芯片?

    作为近乎垄断的光刻机巨头,ASML的EUV光刻机已经在全球顶尖的晶圆厂中获得了使用。无论是英特尔、台积电还是三星,EUV光刻机的购置已经是生产支出中很大的一笔,也成了7nm

    2021-12-01 10:07

  • euv光刻机目前几纳米 中国5纳米光刻机突破了吗

    大家都知道,芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在,全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机,那么euv光刻机目前几纳米呢? 到现在,世界上最先进的

    2022-07-10 11:17

  • 光刻机是干什么用的

    的要求则反过来,我们要确保影像要绝对清晰,就要将对焦点落在光阻上,并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢?  所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内,是不是有点

    2020-09-02 17:38

  • 最先进的光刻机多少nm 中国现在能做几nm芯片

    光刻机是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻机技术几乎被荷兰ASML所垄断,那么全球最先进的光刻机是多少nm的?中国

    2022-07-06 10:07

  • 关于EUV光刻机的分析介绍

    格芯首席技术官Gary Patton表示,如果在5nm的时候没有使用EUV光刻机,那么光刻的步骤将会超过100步,这会让人疯狂。所以所EUV光刻机无疑是未来5

    2019-09-03 17:18

  • duv光刻机和euv光刻机区别是什么

    光刻机和euv光刻机区别是是什么呢? duv光刻机和euv光刻机区别 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能够做到

    2022-07-10 14:53

  • 12亿美元,中芯国际订购光刻机

    中芯国际的芯片工艺目前已发展至14nm,若想将芯片工艺进一步提升至7nm乃至3nm等先进制程,EUV光刻机设备就必不可少。那么,中芯国际此次12亿美元的采购协议都有哪些

    2021-03-10 14:36

  • 光刻机中国能造吗_为什么中国生产不了光刻机

    中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司(SMEE)已经量产的光刻机中,性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm,相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。

    2020-03-18 10:52