今日（5月6日）消息，IBM宣布造出了全球第一颗2nm工艺的半导体芯片。核心指标方面，IBM称该2nm芯片的晶体管密度（MTr/mm
2021-07-20 06:51
中国在量子科技领域又有新突破!《科学》杂志每年都会评选出当年科技领域最为重要的十大突破，业界期待的2019年科技领域十大突破已在近期公布，量子霸权位于十大
2021-07-28 07:38
的晶体管制程从14nm缩减到了1nm。那么，为何说7nm就是硅材料芯片的物理极限，碳纳米管复合材料又是怎么一回事呢？面对美国的技
2021-07-28 07:55
3月25日，科技之巅·麻省理工科技评论全球十大突破性技术峰会在北京召开，该峰会是全球最为著名的技术榜单之一，峰会围绕十大突破性技
2018-03-27 16:07
2020年全球十大突破技术，2018-12-28 08:11:39盘点这一年的核心技术：22纳米光刻机、450公斤人造蓝宝石、0.12毫米玻璃、大型航天器回收、盾构机“弃壳返回”、远距离虹膜识别
2021-07-28 09:17
征亚达合金毫欧电阻技术新突破（新旧对比）：老规格尺寸:0805/1206/2010/2725/2728/4527新规格尺寸:0805/1206/2010/2512/2817/3920/4026
2016-12-16 17:15
的标准、市场应用，以及社会效应等都将制定清晰的规定。 通过结合中国的具体情况，制定出初步的发展路线图需要我们全社会，包括企业、官、产、学、研等从技术上突破。实现这一技术
2017-06-08 15:24
IBM具有开创性的工作开始于1997年在整个行业中采用铜线取代铝线进行布线，这一创新使电流阻抗立即下降了35%，同时芯片性能提高了15%。 从此，IBM的科学家们一直沿着摩尔定律的轨道持续不断地推动性能的提升。以下是从IBM实验室过去十年间的几十项创新中抽取的十大芯片
2019-05-24 07:10
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波
2017-11-14 16:24
及服务 对于晶圆代工厂来说，要进行5nm制程的芯片制造，除了工艺技术和设备之外，相应的半导体材料、配件，以及各种服务工作也是不可或缺的，需要产业链上的合作伙伴共同参与完成。5n
2020-03-09 10:13
