将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程
2018-06-13 14:40
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
请问目前Arm中国的周易AIPU可以支持哪些芯片架构？
2022-09-05 15:50
美国登月也想用中国的技术？
2020-12-18 07:08
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
中国RFID标准方案——《DPC与商联网白皮书》；北京实华开信息技术有限公司总裁曾强提出以收购或合营的方式完成对IP-X标准的知识产权国产化。
2019-10-14 07:28
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
电子标签的标准包括技术标准和应用标准，技术标准和技术规范与全球贸易额的80%直接相关。 我们绝对不能没有中国自己的RFID标准，但一定要在开放的环境中去做，我们跟谁都可
2019-10-14 07:15
