光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程
2018-06-13 14:40
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
目前我国的LED芯片企业约有十家左右，起步较晚，规模不够大，主要是厦门三安和大连路美等。这两年中国大陆的LED芯片企业发展速度较快，技术水平提升也很快，中小尺寸芯片（指22mil以下）已能基本满足
2015-09-09 11:01
美国登月也想用中国的技术？
2020-12-18 07:08
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:56 编辑 在基本解决知识产权问题的前提下，制定具有国际先进水平的中国音频编/解码技术标准，使AVS音频编解码技术
2011-03-04 20:11
、科技和工农业生产等各个领域。以微机电系统技术为基础的智能传感器代表了传感器的主要发展方向，其技术的进步不仅可以提高产品智能化水平，还可推动中国制造向
2020-08-18 06:31
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
上世纪90年代出现的在系统可编程模拟器件，在2007年以后就几乎销声匿迹了，从理论上讲，这应该是一个不错的技术发展方向，是否是因为当前的技术水平的缺陷呢？有没有高手能够解答？
2013-11-28 21:44
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
