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  • 193 nm ArF浸没式光刻技术和EUV光刻技术

    翁寿松(无锡市罗特电子有限公司,江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU:(1)美国俄勒冈州Fab PID厂,2007年下半年量产;(2)美国亚利桑那州Fab 32厂,投资30亿美元,2007年末量产;(3)以色列Fab 28厂,投资35亿美元,2008年上半年量产;(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂,投资10~15亿美元,从90 nm过渡至45 nm,它是英特尔产首座300 mm晶圆厂,也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上,英特尔将于2009年推出32nmMPU,2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存,3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。

    2019-07-01 07:22

  • 我所了解的中国电子元器件行业

    光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的7纳米工艺要到今年底才能量产,英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来,

    2018-06-13 14:40

  • 研究标准光源看这里

    ,正在修改标准且准备陆续替换学校及道路照明的光源,说到这里,我想问一句,为什么国内灯具厂家没有研发高显色(全色谱)标准光源推向室内照明市场啊,这是为什么,为什么、为什么、什么、么、么、么。。。。。。

    2016-03-31 09:06

  • 有没有人做过bpc(中国码)电波钟的,求指导...............

    有没有人做过bpc(中国码)电波钟的,求指导...............68.5Khz那个......

    2012-09-18 16:06

  • 太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    太阳能电池薄膜激光刻配了台特域冷水,用的是什么制冷

    2017-11-25 14:30

  • 求助论坛的半导体工艺大神们,一个电子系研究生求助

    下来。结果是实验室之前根本就没做过器件方面的工作,相关方面也没有人有任何经验,只能我自己去摸索去学习,但一学期下来也没有什么头绪(学校里到是有光刻等器件制作平台可以随时预约使用),上学期也被老师说在混

    2018-02-27 15:47

  • 基于单片光源检测与跟踪系统

    请问点光源检测的模块怎么做?基于单片

    2019-03-05 13:57

  • LED光源里增加反射后可见光!

    我们使用照明通常都是在低照前提下来提高我们对可视物体的辨识。现在比较先进的是LED光源,通常的提高光照度是靠提高光频率或者是束光来提高光照度,这种技术前景可见并提高限度与技术难度也可见。那我们有没有

    2018-10-12 15:25

  • 光刻胶有什么分类?生产流程是什么?

    光刻胶也称为光致抗蚀剂,是一种光敏材料,它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后,受到光照的

    2019-11-07 09:00

  • PWM通过HV9918驱动LED光源

    不知怎么回事 用stm32单片控制PWM输出来驱动LED光源光源亮度低时 光源亮度不稳定 会有轻微抖动 求解!!!!!急啊!!!

    2013-07-10 17:33