光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
、科技和工农业生产等各个领域。以微机电系统技术为基础的智能传感器代表了传感器的主要发展方向，其技术的进步不仅可以提高产品智能化水平，还可推动中国制造向中国智造的发展。
2020-08-18 06:31
物联网提出了十几年了，在中国也有好几年了，不知道它发展了怎么样了，我是自动化专业的，我比较看好这个新技术，想再这方面有所了解，不只哪位大虾能给小生点指教
2013-02-18 20:16
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
5G即将改变社会，在这场跨时代的变革中，中国市场的重要性逐渐提升。在此过程中，中国的运营商尤其是中国移动在5G发展过程中起到了重要作用，
2020-12-18 06:14
中国物品编码中心作为EPCglobal在中国的EPC工作机构，积极开展EPC的注册、管理和业务推广工作；信息产业部科技司十进制网络标准工作组组长谢建平在我国原有NPC编码体系的基础上曾经提出了一套
2019-10-14 07:28
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
中国TD系统如何实现向TD-LTE发展？3.5G LTE基站的信号发射和接收架构应该如何实现？LTE对发射通道的总的性能要求是什么？
2021-06-01 06:43
日前，国家金卡工程协调领导小组办公室、中国RFID(射频识别)产业联盟联合发布了《2008年度中国RFID发展报告》。报告显示，2008年中国RFID产业市场规模达65
2019-07-12 07:21
