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2015-06-06 14:38
PCB生产商的通孔插装工艺模板的印刷方法有几种？
2023-04-06 16:12
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
翁寿松(无锡市罗特电子有限公司，江苏无锡214001)1 32 nm/22 nm工艺进展2006年1月英特尔推出全球首款45 nm全功能153 Mb SRAM芯片。英特尔将投资90亿美元在以下4座45 nm、300 mm晶圆厂量产45 nm MPU：(1)美国俄勒冈州Fab PID厂，2007年下半年量产；(2)美国亚利桑那州Fab 32厂，投资30亿美元，2007年末量产；(3)以色列Fab 28厂，投资35亿美元，2008年上半年量产；(4)美国新墨西哥州RioRancho Fab 11X厂，投资10～15亿美元，从90 nm过渡至45 nm，它是英特尔产首座300 mm晶圆厂，也是英特尔首座全自动化300 mm晶圆高量产厂。45 nm芯片的即将量产意味着32 nm/22 nm工艺将提到议事日程上，英特尔将于2009年推出32nmMPU，2011年推出22 nm MPU。IBM与特许将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
、竞争程度分析 2.9.1 自动方向电压转换器行业集中度分析：2023年全球Top 5生产商市场份额 2.9.2 全球自动方向电压转换器第一梯队、第二梯队和第三梯队生产商（品牌）及市场份额 2.10
2024-03-29 16:25
俺已经用国外品牌的电容及电阻造了马兰士型号7的胆前置，现在用全部都是国产的电容/电阻造马7，关键是国内生产商没有像国外的有规格书，导致我电脑元件库内的元器件都是国外的。现请教各位师兄师姐们有否国内生产商的电容/电阻相关渠道，可让我咨询一下他们。谢谢了！
2025-03-17 08:20
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
资料(如生产商资料); -产品可能对其产生危险的消费者类别(儿童或长者)。 生产商必须承担责任，确保在市场供应及销售的产品安全可靠，例如提供资料及警告，此外，假如产品可能引起危险，生产商必须采取适当行动，例如将产
2016-12-19 09:48
（Wireless Power Consortium）在北京宣布推出首个无线充电标准Qi（读作CHEE，寓意为“生命能量”），该标准目前已引入中国，很多手机生产商也很看好该技术，将来可能会搭配无线充电器出售手机，这意味着摆脱缠绕烦乱的充电线指日可待。
2019-07-26 06:35
单片机的设计方案和单片机提供商之间的关系
2021-03-10 07:20
