中国芯片何时会突破2nm？目前，三星和台积电的战场已经来到了2nm，台积电已经
2022-07-05 09:42
，光源是ArF（氟化氩）准分子激光器，从45nm到10/7nm工艺都可以使用这种光刻机，但是到了7nm这个节点已经的DU
2020-07-07 14:22
1、IBM的2nm芯片，所有关键功能都是使用EUV光刻机进行刻蚀。而7nm芯片只有在芯片生产的中间和后端环节使用EUV光刻机，意味着
2022-07-05 17:26
就在我们在自己研制芯片得不到进展，国外的芯片被断供的困局中，中科院传来了一则振奋人心的消息：中科院的研究人员表示已经突破了设计2nm芯片的瓶颈，成功地掌握了设计2nm芯
2022-06-30 09:27
现在全球芯片行业都聚焦在了2nm制程上，台积电、三星、IBM等芯片巨头也都相继宣布了2nm制程技术的相关消息，台积电和三星已经着手3nm制程的量产了，而在
2022-06-22 10:40
大家都知道，芯片制造的核心设备之一就是光刻机了。现在，全球最先进的光刻机是荷兰ASML的EUV光刻机，那么euv光刻机目前几纳米呢？ 到现在，世界上最先进的
2022-07-10 11:17
近日，台积电正式宣布称2nm工艺芯片技术方面实现了重大突破，并且计划在2025年进阶应用2nm工艺，国产2nm芯片在不久之后或迎来破冰，目前台积电和三星
2022-06-29 09:20
电子发烧友网报道（文/梁浩斌）近期，2nm工艺被几大晶圆代工厂推到了风口浪尖处，台积电、英特尔、三星都在推进2nm的计划，而距离他们2025年的量产计划还有三年时间，装备大战就已经提前展开
2022-06-29 08:32
，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm
2020-03-18 10:52
的要求则反过来，我们要确保影像要绝对清晰，就要将对焦点落在光阻上，并且确保光阻绝对不可落到景深范围之外。那ASML的光刻机景深有多大呢？ 所以我们就是要把光阻移到这个100nm的范围之内，是不是有点
2020-09-02 17:38
