书籍：《炬丰科技-半导体工艺》文章：III-V族半导体纳米线结构的光子学特性编号：JFSJ-21-075作者：炬丰科技 摘要：III-V 族半导体
2021-07-09 10:20
`<div>在***主导、企业奋进、民间关注的当下，中国半导体产业正一片火热，进而吸引了一大批国际企业的目光。2018年11月14日外媒消息称，日本半导体商社
2018-11-16 13:59
，购买或者开发EUV光刻机是否必要？中国应如何切实推进半导体设备产业的发展？EUV面向7nm和5nm节点所谓极紫外光刻，是一种应用于现代集成电路制造的光刻技术，它采用波长为10～14纳米的极紫外光作为
2017-11-14 16:24
半导体，日本这块是打叉的，日本人没人愿意投半导体；2、中国有全世界最庞大的半导体工程师，包括高校的微电子专业，日本现在基本上也不多，因为没人愿意学微电子；
2024-11-04 12:00
半导体是介于导体和绝缘体之间的材料。伴随着半导体市场的壮大，半导体材料也不断获得突破。半导体
2012-02-28 08:52
中国扩大上一代半导体技术的投资 提到技术竞争时，焦点不可避免地集中在最先进的数字上。就半导体而言，就是在芯片上的电子电路的线宽。“纳米”的意思是“十亿分之一”，成为衡量
2022-11-23 10:35
`研讨会介绍在国家大基金和多方科创基金的资金支持下，国产半导体，尤其是模拟半导体企业近两年取得了异常快速的增长，尤其是今年多家半导体公司在科创板成功IPO过会或上市，中国
2020-07-27 09:43
`拟邀请参会企业：拟邀演讲企业及嘉宾：2019年中国模拟半导体飞跃成就奖评选及颁奖活动：如需参与上述评选活动，请点击以下链接，查看详细评选规则，并填写相关信息，参与活动！点我→ 2019年中国模拟
2019-07-11 17:00
，以及在下面紧贴着抗蚀膜的一层硅。刻蚀（英语：etching）是半导体器件制造中利用化学途径选择性地移除沉积层特定部分的工艺。刻蚀对于器件的电学性能十分重要。如果刻蚀过程中出现失误，将造成难以恢复
2017-10-09 19:41
：MacEtch 是一种湿法蚀刻工艺，可提供对取向、长度、形态等结构参数的可控性，此外，它是一种制造极高纵横比半导体纳米结构的简单且低成本的方法。 3 该工艺利用了在氧化剂（例如过氧化氢 (H2O2)）和酸（例如
2021-07-06 09:33
