芯片是半导体中的积分器，目前芯片的利用率很高，要想在技术领域有所突破，就必须在芯片领域发展。在芯片制造中，最受关注的是光刻机的发展。到目前为止，我国光刻机制造领域还比较缺乏机械。我们的光刻机技术相对
2020-08-02 10:32
荷兰作为光刻的生产大国，很多人纷纷都在问为什么荷兰能生产二中国不行.本文主要分析了中国光刻机的发展分析以及与荷兰之间的差距，详细的说明了荷兰光刻机为什么厉害，为何
2017-12-19 14:56
众所周知，光刻机一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21
！光刻机本身的原理，其实和相机非常相似，同学们可以把光刻机就想成是一台巨大的单反相机。相机的原理，是被摄物体被光线照射所反射的光线，透过相机的镜头，将影像投射并聚焦在相机的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38
想知道为啥同一光源为什么可以衍生出这么多不同工艺节点，以Intel为例，2000年用的是180nm，而现在已经是10nm了，其实光刻机决定了半导体工艺的制程工艺，光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径
2020-07-07 14:22
从2009年开始算起，中国研究团队一路攻坚克难，国产首套90纳米高端光刻机已于近期第一次成功曝光。2022年左右有望完成验收。这意味着，中国半导体材料和设备（工艺技术）产业又向前跨出了关键一大步
2018-04-10 10:57
，但是由于面板光刻机针对的是薄膜晶体管，芯片光刻机针对的是晶圆，面板光刻机精度要求远低于芯片光刻机，只要达到pm级别即可
2025-01-16 09:29
ASML的极紫外光刻机（EUV），这个是当前世界顶级的光刻机设备。 在芯片加工的时候，光刻机是用一系列光源能量和形状控制手段，通过带有电路图的掩模传输光束。 光刻设备涉
2022-07-10 11:17
光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序，其中以光刻工序最
2020-03-18 11:00
刻蚀机不能代替光刻机。光刻机的精度和难度的要求都比刻蚀机高出很多，在需要光刻机
2022-02-05 15:47
