将在IBM纽约州East Fishkill 300 mm晶圆厂内联合开发32 nm bulk CMOS工艺。2007年2月美光推出25 nm NAND闪存，3年后量产25 nm闪存。目前32 nm/22 nm工艺尚处于研发阶段。
2019-07-01 07:22
光刻机完成的。而台积电没有使用EUV光刻机的７纳米工艺要到今年底才能量产，英特尔会更晚些。使用EUV光刻机未来可升级到更先进的5纳米制程。这样看来，中国的ＩＣ制程技术比
2018-06-13 14:40
陈虎点兵：无人机“战国时代”，中国必须破解三大挑战 最近网络上曝出2015号歼20试验机首飞，引起军迷们的关注。歼20的研发不断取得进展，标志着在四代机国际竞争中形成了中、美、俄三国竞争时代。
2020-05-15 07:53
太阳能电池薄膜激光刻蚀机配了台特域冷水机，用的是什么制冷机？
2017-11-25 14:30
光刻胶也称为光致抗蚀剂，是一种光敏材料，它受到光照后特性会发生改变。光刻胶主要用来将光刻掩膜版上的图形转移到晶圆片上。光刻胶有正胶和负胶之分。正胶经过曝光后，受到光照的
2019-11-07 09:00
芯片是怎么产生技术
2019-05-09 02:46
本人某985电子学院研一学生，我们导师在我刚来的时候就把一个课题给我去做，前期的材料与薄膜学长学姐们已经完成了，让我解决后期的光刻与器件制备等问题。本来我觉得是一个很好的锻炼自己的机会，就直接答应了
2018-02-27 15:47
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:46 编辑 科技委主任韦乐平今天透露，中国电信今年将完成约100万FTTH（光纤到户）接入。<br/>&
2010-05-10 13:46
三个电脑 一个电脑作为服务机 另外两个作为客户机 然后服务机能给客户机发消息 客户机也能给服务
2018-04-25 13:11
喷胶机是现代光电子产业中光刻胶涂布的重要设备。可对不同尺寸和形状的基片进行涂胶，最大涂胶尺寸达8寸，得到厚度均匀的光刻胶层，同时可对大深宽比结构的侧壁进行均匀涂胶；通过计算机系统控制器进行工艺参数的编辑和操作。
2020-03-23 09:00
